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The process of growing Cr₂O₃ thin films on α-Al₂O₃ substrates at low temperature by r.f. magnetron sputtering

Gao, Yin; Leiste, Harald; Stueber, Michael; Ulrich, Sven



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.08.009
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seit 26.06.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Geowissenschaften (AGW)
Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-0248, 1873-5002
KITopen-ID: 1000059946
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Journal of Crystal Growth
Band 457
Seiten 158-163
Schlagworte 2017-018-018090 2017-018-018091; 2015-015-008809; 2015-015-008810 TFC TFT
Nachgewiesen in Scopus
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