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The process of growing Cr₂O₃ thin films on α-Al₂O₃ substrates at low temperature by r.f. magnetron sputtering

Gao, Yin 1; Leiste, Harald 1; Stueber, Michael 1; Ulrich, Sven 1
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.08.009
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Web of Science
Zitationen: 21
Dimensions
Zitationen: 22
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Angewandte Geowissenschaften (AGW)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
KIT-Zentrum Klima und Umwelt (ZKU)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-0248, 1873-5002
KITopen-ID: 1000059946
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Journal of Crystal Growth
Verlag Elsevier
Band 457
Seiten 158-163
Schlagwörter 2017-018-018090 2017-018-018091; 2015-015-008809; 2015-015-008810 TFC TFT
Nachgewiesen in Web of Science
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