KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

The process of growing Cr2O3 thin films on α-Al2O3 substrates at low temperature by r.f. magnetron sputtering [in press]

Gao, Yin; Leiste, Harald; Stueber, Michael; Ulrich, Sven



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2016.08.009
ISSN: 0022-0248, 1873-5002
KITopen ID: 1000059946
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erschienen in Journal of crystal growth
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page