The process of growing Cr₂O₃ thin films on α-Al₂O₃ substrates at low temperature by r.f. magnetron sputtering
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) Institut für Angewandte Geowissenschaften (AGW) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) KIT-Zentrum Klima und Umwelt (ZKU) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0022-0248, 1873-5002 KITopen-ID: 1000059946 |
| HGF-Programm | 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design |
| Erschienen in | Journal of Crystal Growth |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 457 |
| Seiten | 158-163 |
| Schlagwörter | 2017-018-018090 2017-018-018091; 2015-015-008809; 2015-015-008810 TFC TFT |
| Nachgewiesen in | OpenAlex Scopus Web of Science Dimensions |