Transition of optical regime in miniaturized optical systems: Light interactions beyond the refraction limit
Kim, M.-S.; Scharf, T.; Rockstuhl, C.
1,2; Nakagawa, W.; Voelkel, R.; Herzig, H. P.
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Nakagawa, W.; Voelkel, R.; Herzig, H. P.1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-62841-995-5 ISSN: 0277-786X KITopen-ID: 1000060203 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | MOEMS and Miniaturized Systems XV; San Francisco; United States; 15 February 2016 through 17 February 2016 |
| Verlag | Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE) |
| Seiten | Art.Nr. 97600W |
| Serie | Proceedings of SPIE ; 9760 |
| Nachgewiesen in | OpenAlex Scopus Dimensions |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |