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Transition of optical regime in miniaturized optical systems: Light interactions beyond the refraction limit

Kim, M.-S.; Scharf, T.; Rockstuhl, C. 1,2; Nakagawa, W.; Voelkel, R.; Herzig, H. P.
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-62841-995-5
ISSN: 0277-786X
KITopen-ID: 1000060203
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in MOEMS and Miniaturized Systems XV; San Francisco; United States; 15 February 2016 through 17 February 2016
Verlag Society of Photo-optical Instrumentation Engineers (SPIE)
Seiten Art.Nr. 97600W
Serie Proceedings of SPIE ; 9760
Nachgewiesen in Scopus
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