Zwei-Photonen-Lithografie zur Herstellung optofluidischer Systeme

In dieser Arbeit wurden unterschiedliche Verfahren zur Strukturierung mittels 2PP entwickelt. Diese Verfahren nutzen entweder optische Antennen oder eine doppelte Belichtung, um immer kleinere Strukturgrößen zu realisieren. So konnte mit der Doppelbelichtung die Linienbreite auf 75nm gesenkt werden. Im Gegensatz dazu, wurde ein Hybrid-Lithografie-Verfahren entwickelt, wodurch die dreidimensionale Nanostrukturierung mit einer großflächigen Mikrostrukturierung kombiniert werden konnte.