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UV-Induced Disulfide Formation and Reduction for Dynamic Photopatterning

Li, Lei; Feng, Wenqian; Welle, Alexander; Levkin, Pavel A.

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000060533
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/anie.201607276
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Web of Science
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seit 03.07.2018
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seit 04.10.2017
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Toxikologie und Genetik (ITG)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0044-8249, 0570-0833, 1433-7851, 1521-3773
urn:nbn:de:swb:90-605335
KITopen-ID: 1000060533
HGF-Programm 47.01.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Angewandte Chemie / International edition
Band 55
Heft 44
Seiten 13765-13769
Projektinformation DropCellArray (EU, FP7, 337077)
Nachgewiesen in Web of Science
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