KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

UV-Induced Disulfide Formation and Reduction for Dynamic Photopatterning

Li, Lei; Feng, Wenqian; Welle, Alexander; Levkin, Pavel A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Toxikologie und Genetik (ITG)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1002/anie.201607276
DOI(KIT): 10.5445/IR/1000060533
ISSN: 0044-8249, 0570-0833, 1433-7851, 1521-3773
URN: urn:nbn:de:swb:90-605335
KITopen ID: 1000060533
HGF-Programm 47.01.01; LK 01
Erschienen in Angewandte Chemie / International edition
Band 55
Heft 44
Seiten 13765-13769
Embargofrist Die Publikation ist in KITopen am 04.10.2017 als Volltext frei zugänglich (Open Access).
Projektinformation DropCellArray (EU, FP7, 337077)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page