Resistless patterning of quantum nanostructures by local anodization with an atomic force microscope

Bouchiat, V.; Faucher, M.; Fournier, T.; Pannetier, B.; Thirion, C.; Wernsdorfer, Wolfgang; Clement, N.; Tonneau, D.; Dallaporta, H.; Safarov, S.; Villegier, J. C.; Fraboulet, D.; Mariolle, D.; Gautier, J.

doi:10.1016/S0167-9317(02)00524-5

Resistless patterning of quantum nanostructures by local anodization with an atomic force microscope

Bouchiat, V.; Faucher, M.; Fournier, T.; Pannetier, B.; Thirion, C.; Wernsdorfer, Wolfgang; Clement, N.; Tonneau, D.; Dallaporta, H.; Safarov, S.; Villegier, J. C.; Fraboulet, D.; Mariolle, D.; Gautier, J.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Physikalisches Institut (PHI)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	2002
Sprache	Englisch
Identifikator	ISSN: 0167-9317, 1873-5568 KITopen-ID: 1000061341
Erschienen in	Microelectronic engineering
Verlag	Elsevier
Band	61-2
Seiten	517-522
Nachgewiesen in	Dimensions Scopus OpenAlex Web of Science

Repository KITopen

Resistless patterning of quantum nanostructures by local anodization with an atomic force microscope