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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1109/IRPS.2016.7574590

The impact of process variation and stochastic aging in nanoscale VLSI

Kiamehr, Saman; Weckx, Pieter; Tahoori, Mehdi; Kaczer, Ben; Kukner, Halil; Raghavan, Praveen; Groeseneken, Guido; Catthoor, Francky



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Informatik (ITEC)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-4673-9137-5
KITopen ID: 1000061593
Erschienen in 2016 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), Pasadena, CA, USA, 17–21 April 2016
Verlag IEEE, Piscataway (NY)
Seiten CR11 - CR16
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