The impact of process variation and stochastic aging in nanoscale VLSI
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Technische Informatik (ITEC) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-4673-9137-5 KITopen-ID: 1000061593 |
| Erschienen in | 2016 IEEE International Reliability Physics Symposium (IRPS), Pasadena, CA, USA, 17–21 April 2016 |
| Verlag | Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE) |
| Seiten | CR11 - CR16 |
| Nachgewiesen in | Scopus OpenAlex Dimensions |