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Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement

Flötotto, D.; Wang, Z. M.; Markel, I. J. 1; Kurz, S. J. B.; Mittemeijer, E. J.
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4964945
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550
KITopen-ID: 1000061984
Erschienen in Journal of applied physics
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 120
Seiten 155305
Nachgewiesen in Web of Science
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