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Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement

Flötotto, D.; Wang, Z.M.; Markel, I.J.; Kurz, S.J.B.; Mittemeijer, E.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1063/1.4964945
ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550
KITopen ID: 1000061984
Erschienen in Journal of applied physics
Band 120
Seiten 155305
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