Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0021-8979, 0148-6349, 1089-7550 KITopen-ID: 1000061984 |
| Erschienen in | Journal of applied physics |
| Verlag | American Institute of Physics (AIP) |
| Band | 120 |
| Seiten | 155305 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science Dimensions |