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Controlled electromigration and oxidation of free-standing copper wires

Hauser, J. S.; Schwichtenberg, J.; Marz, M.; Sürgers, C.; Seiler, A.; Gerhards, U.; Messerschmidt, F.; Hensel, A.; Dittmeyer, R.; Löhneysen, H. v.; Hoffmann-Vogel, R.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00339-016-0600-z
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seit 28.04.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Physikalisches Institut (PHI)
Institut für Festkörperphysik (IFP)
Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0340-3793, 0721-7250, 0947-8396
KITopen-ID: 1000062689
HGF-Programm 43.21.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Applied physics / A
Band 122
Seiten 1068
Nachgewiesen in Web of Science
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