KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Analysis of the effective thermoelastic properties and stress fields in silicon nitride based on EBSD data

Othmani, Yamen 1; Böhlke, Thomas ORCID iD icon 1; Lube, Tanja; Fellmeth, Andreas 2; Chlup, Zdenek; Colonna, Francesco; Hashibon, Adham
1 Institut für Technische Mechanik (ITM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Produktionstechnik (WBK), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jeurceramsoc.2015.10.046
Scopus
Zitationen: 4
Web of Science
Zitationen: 4
Dimensions
Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Produktionstechnik (WBK)
Institut für Technische Mechanik (ITM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0955-2219, 1873-619X
KITopen-ID: 1000062718
Erschienen in Journal of the European Ceramic Society
Verlag Elsevier
Band 36
Heft 5
Seiten 1109-1125
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
Dimensions
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page