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Direct Observation of the Thickness-Induced Crystallization and Stress Build-Up during Sputter-Deposition of Nanoscale Silicide Films

Krause, Bärbel 1; Abadias, Gregory; Michel, Anny; Wochner, Peter; Ibrahimkutty, Shyjumon; Baumbach, Tilo 1,2
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.6b12413
Scopus
Zitationen: 18
Web of Science
Zitationen: 18
Dimensions
Zitationen: 20
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000064748
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 8
Heft 50
Seiten 34888–34895
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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