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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.6b12413
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Zitationen: 4
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Zitationen: 4

Direct Observation of the Thickness-Induced Crystallization and Stress Build-Up during Sputter-Deposition of Nanoscale Silicide Films

Krause, Bärbel; Abadias, Gregory; Michel, Anny; Wochner, Peter; Ibrahimkutty, Shyjumon; Baumbach, Tilo



Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000064748
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01)
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Band 8
Heft 50
Seiten 34888–34895
Nachgewiesen in Web of Science
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