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Direct Observation of the Thickness-Induced Crystallization and Stress Build-Up during Sputter-Deposition of Nanoscale Silicide Films

Krause, Bärbel; Abadias, Gregory; Michel, Anny; Wochner, Peter; Ibrahimkutty, Shyjumon; Baumbach, Tilo



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1021/acsami.6b12413
ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen ID: 1000064748
HGF-Programm 56.03.20; LK 01
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Band 8
Heft 50
Seiten 34888–34895
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