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Photoenol laser lithography using intermediate-state cis-trans isomerization for writing inhibition

Müller, P. 1,2; Richter, B. 3; Quick, A. S. 3; Fischer, J. 2; Müller, J. B. 1,2; Zhou, L. 1,2; Nienhaus, G. U. 1,2; Bastmeyer, M. 3; Barner-Kowollik, C. 3; Wegener, M. 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Zoologisches Institut (ZOO)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-943580-11-8
KITopen-ID: 1000066969
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2016), San Jose, CA, June 5-10, 2016. OSA Technical Digest
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Seiten Paper SW4L.3
Nachgewiesen in Scopus
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