Photoenol laser lithography using intermediate-state cis-trans isomerization for writing inhibition
Müller, P. 1,2; Richter, B. 3; Quick, A. S. 3; Fischer, J. 2; Müller, J. B. 1,2; Zhou, L. 1,2; Nienhaus, G. U.
1,2; Bastmeyer, M. 3; Barner-Kowollik, C. 3; Wegener, M. 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Bastmeyer, M. 3; Barner-Kowollik, C. 3; Wegener, M. 1,21 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Physik (APH) Institut für Biologische Grenzflächen (IBG) Institut für Nanotechnologie (INT) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) Zoologisches Institut (ZOO) |
| Publikationstyp | Proceedingsbeitrag |
| Publikationsjahr | 2016 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISBN: 978-1-943580-11-8 KITopen-ID: 1000066969 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2016), San Jose, CA, June 5-10, 2016. OSA Technical Digest |
| Verlag | Optica Publishing Group (OSA) |
| Seiten | Paper SW4L.3 |
| Nachgewiesen in | Scopus |