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Photoenol laser lithography using intermediate-state cis-trans isomerization for writing inhibition

Müller, P.; Richter, B.; Quick, A.S.; Fischer, J.; Müller, J.B.; Zhou, L.; Nienhaus, G.U.; Bastmeyer, M.; Barner-Kowollik, C.; Wegener, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Physik (APH)
Zoologisches Institut (ZOO)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-943580-11-8
KITopen ID: 1000066969
Erschienen in Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2016), San Jose, CA, June 5-10, 2016. OSA Technical Digest
Verlag Optical Society of America, Washington, DC
Seiten Paper SW4L.3
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