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Photoenol laser lithography using intermediate-state cis-trans isomerization for writing inhibition

Müller, P.; Richter, B.; Quick, A.S.; Fischer, J.; Müller, J.B.; Zhou, L.; Nienhaus, G.U.; Bastmeyer, M.; Barner-Kowollik, C.; Wegener, M.



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seit 07.05.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Zoologisches Institut (ZOO)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-943580-11-8
KITopen-ID: 1000066969
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO 2016), San Jose, CA, June 5-10, 2016. OSA Technical Digest
Verlag Optical Society of America, Washington, DC
Seiten Paper SW4L.3
Nachgewiesen in Scopus
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