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Soft Lithography of 3D Polymeric Lasers and Cavities

Bar-On, Ofer; Brenner, Philipp; Siegle, Tobias; Gvishi, Raz; Krämmer, Sarah; Kalt, Heinz; Lemmer, Ulrich; Scheuer, Jacob



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1364/CLEO_SI.2016.SM4E.3
ISBN: 978-1-943580-11-8
KITopen ID: 1000066979
Erschienen in Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO), San Jose, CA, June 5-10, 2016
Verlag OSA, Washington, DC
Seiten Paper SM4E.3
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