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Controlled Charging of Ferroelastic Domain Walls in Oxide Ferroelectrics

Wei, X.-K.; Sluka, T.; Fraygola, B.; Feigl, L.; Du, H.; Jin, L.; Jia, C.-L.; Setter, N.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1021/acsami.6b13821
ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen ID: 1000067286
HGF-Programm 56.03.20; LK 01
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Band 9
Heft 7
Seiten 6539-6546
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