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Controlled Charging of Ferroelastic Domain Walls in Oxide Ferroelectrics

Wei, X.-K.; Sluka, T.; Fraygola, B.; Feigl, L. 1; Du, H.; Jin, L.; Jia, C.-L.; Setter, N.
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.6b13821
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Zitationen: 29
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Zitationen: 29
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Zitationen: 29
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000067286
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 9
Heft 7
Seiten 6539-6546
Nachgewiesen in Web of Science
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