Precise background subtraction in stimulated emission double depletion nanoscopy
Gao, Peng 1,2; Nienhaus, G. Ulrich
1,2,3
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Toxikologie und Genetik (ITG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2,31 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Toxikologie und Genetik (ITG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2017 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0146-9592, 1539-4794 KITopen-ID: 1000067290 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Optics letters |
| Verlag | Optica Publishing Group (OSA) |
| Band | 42 |
| Heft | 4 |
| Seiten | 831-834 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions Scopus |