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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2017.02.056

Structural features of N-containing titanium dioxide thin films deposited by magnetron sputtering

Pustovalova, A. A.; Pichugin, V. F.; Ivanova, N. M.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen ID: 1000067534
HGF-Programm 49.02.06; LK 02
Erschienen in Thin solid films
Band 627
Seiten 9-16
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