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Monitoring of stress–strain evolution in thin films by reflection anisotropy spectroscopy and synchrotron X-ray diffraction

Wyss, A.; Sologubenko, A. S.; Mishra, N.; Gruber, P. A.; Spolenak, R.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s10853-017-0909-9
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Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoff- und Biomechanik (IAM-WBM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-2461, 1573-4803
KITopen-ID: 1000067542
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01)
Erschienen in Journal of materials science
Band 52
Heft 11
Seiten 6741-6753
Nachgewiesen in Web of Science
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