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Monitoring of stress–strain evolution in thin films by reflection anisotropy spectroscopy and synchrotron X-ray diffraction

Wyss, A.; Sologubenko, A. S.; Mishra, N.; Gruber, P. A.; Spolenak, R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoff- und Biomechanik (IAM-WBM)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1007/s10853-017-0909-9
ISSN: 0022-2461, 1573-4803
KITopen ID: 1000067542
Erschienen in Journal of materials science
Band 52
Heft 11
Seiten 6741-6753
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