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Hall effect sign-inversion and parallel hall effect in single-constituent 3D metamaterials

Kern, Christian 1; Kadic, Muamer 1; Schittny, Robert 1; Bückmann, Tiemo 1; Wegener, Martin 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-94-024-0848-5
ISSN: 1874-6500
KITopen-ID: 1000067559
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Nano-Optics: Principles Enabling Basic Research and Applications. Ed.: B. Di Bartolo
Verlag Springer Netherlands
Seiten 459-460
Serie NATO Science for Peace and Security Series B: Physics and Biophysics
Bemerkung zur Veröffentlichung Proceedings of the NATO Advanced Study Institute on Nano-Optics:

Principles Enabling Basic Research and Applications, Erice, I, July 4-19, 2015
Nachgewiesen in Dimensions
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