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Structural evolution in reactive RF magnetron sputtered (Cr,Zr)₂O₃ coatings during annealing

Landälv, L.; Lu, J.; Spitz, S. 1; Leiste, H. 1; Ulrich, S. 1; Johansson-Jõesaar, M. P.; Ahlgren, M.; Göthelid, E.; Alling, B.; Hultman, L.; Stüber, M. 1; Eklund, P.
1 Institut für Angewandte Materialien (IAM), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.actamat.2017.03.063
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1359-6454, 1873-2453
KITopen-ID: 1000069464
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Erschienen in Acta materialia
Verlag Elsevier
Band 131
Seiten 543-552
Schlagwörter 2015-015-008812; 2015-015-008811 TFC TFT
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