Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon carbonitride : Deposition temperature dependence of bonding structure, refractive index, mechanical stress and their aging under ambient air
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Physik (APH) Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen) Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2017 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0040-6090, 1879-2731 KITopen-ID: 1000070216 |
| Erschienen in | Thin solid films |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 634 |
| Seiten | 66-72 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Dimensions OpenAlex Scopus |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |
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seit 04.05.2018
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