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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2017.05.004
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Plasma-enhanced chemical vapor deposition of amorphous silicon carbonitride : Deposition temperature dependence of bonding structure, refractive index, mechanical stress and their aging under ambient air

Huber, Christian; Stein, Benedikt; Kalt, Heinz



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen ID: 1000070216
Erschienen in Thin solid films
Band 634
Seiten 66-72
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