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How the Oxidation Stability of Metal Catalysts Defines the Metal-Assisted Chemical Etching of Silicon

Williams, Max O.; Hiller, Daniel; Bergfeldt, Thomas ORCID iD icon 1; Zacharias, Margit
1 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acs.jpcc.6b12362
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Zitationen: 20
Dimensions
Zitationen: 23
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1932-7447, 1932-7455
KITopen-ID: 1000070582
HGF-Programm 49.02.03 (POF III, LK 02) Bulk and Trace Analysis
Erschienen in The journal of physical chemistry <Washington, DC> / C
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 121
Heft 17
Seiten 9296–9299
Nachgewiesen in Dimensions
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