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How the Oxidation Stability of Metal Catalysts Defines the Metal-Assisted Chemical Etching of Silicon

Williams, Max O.; Hiller, Daniel; Bergfeldt, Thomas; Zacharias, Margit



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1932-7447, 1932-7455
KITopen ID: 1000070582
Erschienen in The journal of physical chemistry <Washington, DC> / C
Band 121
Heft 17
Seiten 9296–9299
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