Through silicon vias with invar metal conductor for high-temperature applications
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2017 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 1057-7157, 1941-0158 KITopen-ID: 1000071074 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Journal of microelectromechanical systems |
| Verlag | IEEE Electron Devices Society |
| Band | 26 |
| Heft | 1 |
| Seiten | 158-168 |
| Nachgewiesen in | Scopus Web of Science Dimensions |