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Molecular Switch for Sub-Diffraction Laser Lithography by Photoenol Intermediate-State Cis–Trans Isomerization

Mueller, Patrick 1,2; Zieger, Markus M. 3; Richter, Benjamin 4; Quick, Alexander S. 3; Fischer, Joachim 2; Mueller, Jonathan B. 1,2; Zhou, Lu 1,2; Nienhaus, Gerd Ulrich ORCID iD icon 1,2; Bastmeyer, Martin 5; Barner-Kowollik, Christopher 3; Wegener, Martin 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
5 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsnano.7b02820
Scopus
Zitationen: 46
Web of Science
Zitationen: 43
Dimensions
Zitationen: 46
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen-ID: 1000071583
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in ACS nano
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 11
Heft 6
Seiten 6396-6403
Nachgewiesen in PubMed
Web of Science
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