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Molecular Switch for Sub-Diffraction Laser Lithography by Photoenol Intermediate-State Cis–Trans Isomerization

Mueller, Patrick; Zieger, Markus M.; Richter, Benjamin; Quick, Alexander S.; Fischer, Joachim; Mueller, Jonathan B.; Zhou, Lu; Nienhaus, Gerd Ulrich; Bastmeyer, Martin; Barner-Kowollik, Christopher; Wegener, Martin



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsnano.7b02820
Scopus
Zitationen: 20
Web of Science
Zitationen: 18
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen-ID: 1000071583
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in ACS nano
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 11
Heft 6
Seiten 6396-6403
Nachgewiesen in Web of Science
PubMed
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