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Molecular Switch for Sub-Diffraction Laser Lithography by Photoenol Intermediate-State Cis–Trans Isomerization

Mueller, Patrick; Zieger, Markus M.; Richter, Benjamin; Quick, Alexander S.; Fischer, Joachim; Mueller, Jonathan B.; Zhou, Lu; Nienhaus, Gerd Ulrich; Bastmeyer, Martin; Barner-Kowollik, Christopher; Wegener, Martin



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1021/acsnano.7b02820
ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen ID: 1000071583
HGF-Programm 43.23.01; LK 01
Erschienen in ACS nano
Band 11
Heft 6
Seiten 6396–6403
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