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Selbstorganisierende, hochkristalline Dünnschichten als innovative Materialplattform mit hohem Anwendungspotential

Gliemann, Hartmut

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Volltext §
DOI: 10.5445/IR/1000071768
Coverbild
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Vortrag
Jahr 2017
Sprache Deutsch
Identifikator urn:nbn:de:swb:90-717688
KITopen-ID: 1000071768
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01)
Veranstaltung Wörlitzer Workshop "Selbstorganisierende Schichten", Wörlitz, 19.6.-20.6.2017
Schlagworte Metal-organic frameworks SURMOFs Sensors molecular filters
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