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Fabrication of Crack-Free Photonic Crystal Films on Superhydrophobic Nanopin Surface

Xia, T.; Luo, W.; Hu, F.; Qiu, W.; Zhang, Z.; Lin, Y. 1,2; Liu, X. Y.
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsami.7b04653
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Zitationen: 23
Web of Science
Zitationen: 21
Dimensions
Zitationen: 22
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1944-8244, 1944-8252
KITopen-ID: 1000072199
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in ACS applied materials & interfaces
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 9
Heft 26
Seiten 22037-22041
Nachgewiesen in Web of Science
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