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Room-Temperature Processing of Printed Oxide FETs Using Ultraviolet Photonic Curing

Garlapati, Suresh K. 1; Gebauer, Julia Susanne; Dehm, Simone 1; Bruns, Michael 2; Winterer, Markus; Hahn, Horst 1; Dasgupta, Subho 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/aelm.201600476
Scopus
Zitationen: 30
Web of Science
Zitationen: 28
Dimensions
Zitationen: 33
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2199-160X
KITopen-ID: 1000073069
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems
Erschienen in Advanced electronic materials
Verlag John Wiley and Sons
Band 3
Heft 9
Seiten Art. Nr. 1600476
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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