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KF post-deposition treatment of industrial Cu(In, Ga)(S, Se)2 thin-film surfaces: Modifying the chemical and electronic structure

Mezher, M.; Mansfield, L. M.; Horsley, K.; Blum, M.; Wieting, R.; Weinhardt, L. 1,2; Ramanathan, K.; Heske, C. ORCID iD icon 1,2
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-6951, 1077-3118
KITopen-ID: 1000073924
HGF-Programm 56.03.10 (POF III, LK 01) Material a. Processes f. Energy Technol.
Erschienen in Applied physics letters
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 111
Heft 7
Seiten Art. Nr.: 071601
Nachgewiesen in Dimensions
OpenAlex
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Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung Ziel 7 – Bezahlbare und saubere Energie

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4998445
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Seitenaufrufe: 137
seit 25.04.2018
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