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KF post-deposition treatment of industrial Cu(In, Ga)(S, Se)2 thin-film surfaces: Modifying the chemical and electronic structure

Mezher, M.; Mansfield, L. M.; Horsley, K.; Blum, M.; Wieting, R.; Weinhardt, L. 1,2; Ramanathan, K.; Heske, C. 1,2
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.4998445
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Zitationen: 17
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Zitationen: 18
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0003-6951, 1077-3118
KITopen-ID: 1000073924
HGF-Programm 56.03.10 (POF III, LK 01) Material a. Processes f. Energy Technol.
Erschienen in Applied physics letters
Verlag American Institute of Physics (AIP)
Band 111
Heft 7
Seiten Art. Nr.: 071601
Nachgewiesen in Scopus
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