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Synthesis of local epitaxial α-(Cr₁-ₓAlₓ)₂O₃ thin films (0.08 ≤ x ≤ 0.16) on α-Al₂O₃ substrates by r.f. magnetron sputtering

Gao, Yin 1; Leiste, Harald 1; Ulrich, Sven 1; Stüber, Michael 1
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2017.05.054
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Zitationen: 10
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Zitationen: 10
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsdatum 31.12.2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 1000074196
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Erschienen in Thin solid films
Verlag Elsevier
Band 644
Seiten 129-137
Vorab online veröffentlicht am 06.09.2017
Schlagwörter 2015-015-008809; 2015-015-008810 TFC TFT
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