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Quantum noise reduction in intensity-sensitive surface-plasmon-resonance sensors

Lee, J.-S.; Huynh, T.; Lee, S.-Y.; Lee, K.-G.; Lee, J.; Tame, M.; Rockstuhl, C. 1,2; Lee, C. 1
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevA.96.033833
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Zitationen: 34
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Zitationen: 33
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0556-2791, 1050-2947, 1094-1622, 2469-9926, 2469-9934
KITopen-ID: 1000075382
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Physical review / A
Verlag American Physical Society (APS)
Band 96
Heft 3
Seiten Art.Nr.: 033833
Nachgewiesen in Scopus
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