Quantum noise reduction in intensity-sensitive surface-plasmon-resonance sensors
Lee, J.-S.; Huynh, T.; Lee, S.-Y.; Lee, K.-G.; Lee, J.; Tame, M.; Rockstuhl, C.
1,2; Lee, C. 1
1 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Lee, C. 11 Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) Institut für Theoretische Festkörperphysik (TFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2017 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0556-2791, 1050-2947, 1094-1622, 2469-9926, 2469-9934 KITopen-ID: 1000075382 |
| HGF-Programm | 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy |
| Erschienen in | Physical review / A |
| Verlag | American Physical Society (APS) |
| Band | 96 |
| Heft | 3 |
| Seiten | Art.Nr.: 033833 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |