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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adem.201700699
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Liquid PMMA : A High Resolution Polymethylmethacrylate Negative Photoresist as Enabling Material for Direct Printing of Microfluidic Chips

Kotz, Frederik; Arnold, Karl; Wagner, Stefan; Bauer, Werner; Keller, Nico; Nargang, Tobias M.; Helmer, Dorothea; Rapp, Bastian E.



Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Angewandte Materialien - Keramische Werkstoffe und Technologien (IAM-KWT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1438-1656, 1527-2648
KITopen ID: 1000076400
HGF-Programm 47.02.07; LK 01
Erschienen in Advanced engineering materials
Band 20
Heft 2
Seiten Art.Nr. 1700699
Vorab online veröffentlicht am 17.10.2017
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