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Liquid PMMA : A High Resolution Polymethylmethacrylate Negative Photoresist as Enabling Material for Direct Printing of Microfluidic Chips [in press]

Kotz, F.; Arnold, K.; Wagner, S.; Bauer, W.; Keller, N.; Nargang, T. M.; Helmer, D.; Rapp, B. E.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1438-1656, 1527-2648
KITopen ID: 1000076400
Erschienen in Advanced engineering materials
Vorab online veröffentlicht am 17.10.2017
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