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Influence of RF-sputtering power on formation of vertically stacked Si₁₋ₓGeₓ nanocrystals between ultra-thin amorphous Al₂O₃ layers : structural and photoluminescence properties

Vieira, E. M. F.; Martín-Sánchez, J.; Roldan, M. A.; Varela, M.; Buljan, M.; Bernstorff, S.; Barradas, N. P.; Franco, N.; Correia, M. R.; Rolo, A. G.; Pennycook, S. J.; Molina, S. I.; Alves, E.; Chahboun, A.; Gomes, M. J. M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-3727, 0262-8171, 0508-3443, 1361-6463
KITopen ID: 1000077090
Erschienen in Journal of physics / D
Band 46
Heft 38
Seiten Art.Nr.: 385301
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