KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Open Access Logo
§
Volltext
DOI: 10.5445/IR/1000079112
Veröffentlicht am 23.01.2018

Electronic Transport Properties of LaAlO₃/SrTiO₃ Heterostructures Under Hydrostatic Pressure

Sleem, Ahmed



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Festkörperphysik (IFP)
Publikationstyp Hochschulschrift
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator URN: urn:nbn:de:swb:90-791124
KITopen ID: 1000079112
Verlag Karlsruhe
Umfang 90 S.
Abschlussart Dissertation
Fakultät Fakultät für Physik (PHYSIK)
Institut Institut für Festkörperphysik (IFP)
Prüfungsdatum 10.11.2017
Referent/Betreuer Prof. H. von Löhneysen
Schlagworte LAO/STO, Hydrostatic pressure, Oxide thin films, Transport Properties
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page