Electronic Transport Properties of LaAlO₃/SrTiO₃ Heterostructures Under Hydrostatic Pressure
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Festkörperphysik (IFP) |
| Publikationstyp | Hochschulschrift |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | urn:nbn:de:swb:90-791124 KITopen-ID: 1000079112 |
| Verlag | Karlsruher Institut für Technologie (KIT) |
| Umfang | 90 S. |
| Art der Arbeit | Dissertation |
| Fakultät | Fakultät für Physik (PHYSIK) |
| Institut | Institut für Festkörperphysik (IFP) |
| Prüfungsdatum | 10.11.2017 |
| Schlagwörter | LAO/STO, Hydrostatic pressure, Oxide thin films, Transport Properties |
| Nachgewiesen in | OpenAlex |
| Referent/Betreuer | Löhneysen, H. von |