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Passivation layers for nanostructured photoanodes : Ultra-thin oxides on InGaN nanowires

Neuderth, P.; Hille, P.; Schörmann, J.; Frank, A.; Reitz, C.; Martí-Sánchez, S.; De La Mata, M.; Coll, M.; Arbiol, J.; Marschall, R.; Eickhoff, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2050-7488, 2050-7496
KITopen ID: 1000079248
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erschienen in Journal of materials chemistry / A
Band 6
Heft 2
Seiten 565-573
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