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Passivation layers for nanostructured photoanodes : Ultra-thin oxides on InGaN nanowires

Neuderth, P.; Hille, Pascal; Schörmann, Jörg; Frank, Alexander; Reitz, Christian 1; Martí-Sánchez, Sara; De La Mata, María; Coll, Marionna; Arbiol, Jordi; Marschall, Roland; Eickhoff, Martin
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/c7ta08071a
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Zitationen: 27
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2050-7488, 2050-7496
KITopen-ID: 1000079248
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in Journal of materials chemistry / A
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 6
Heft 2
Seiten 565-573
Vorab online veröffentlicht am 06.12.2017
Nachgewiesen in Dimensions
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