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2D laser lithography on silicon substrates photoinduced copper-mediated radical polymerization

Laun, Joachim; De Smet, Yana; Van de Reydt, Emma; Krivcov, Alexander; Trouillet, Vanessa; Welle, Alexander; Möbius, Hildegard; Barner-Kowollik, Christopher; Junkers, Tanja


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1039/C7CC08444G
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Web of Science
Zitationen: 10
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Zitationen: 11
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0009-241X, 0022-4936, 1359-7345, 1364-548X
KITopen-ID: 1000079947
HGF-Programm 47.02.06 (POF III, LK 01) Zellpopul.auf Biofunk.Oberflächen IFG
Weitere HGF-Programme 49.02.01 (POF III, LK 02) INT-KNMF Characterisation Lab
Erschienen in Chemical communications
Verlag Royal Society of Chemistry (RSC)
Band 54
Heft 7
Seiten 751–754
Vorab online veröffentlicht am 18.12.2017
Nachgewiesen in Web of Science
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