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Kern, Kadic, and Wegener Reply

Kern, Christian 1,2; Kadic, Muamer 1,2; Wegener, Martin 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevLett.120.149702
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0031-9007, 1079-7114, 1092-0145
KITopen-ID: 1000082291
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Physical review letters
Verlag American Physical Society (APS)
Band 120
Heft 14
Seiten Art.Nr. 149702
Bemerkung zur Veröffentlichung Reply to a comment of J. Oswald on “Experimental Evidence for Sign Reversal of the Hall Coefficient in Three-Dimensional Metamaterials”
Vorab online veröffentlicht am 05.04.2018
Nachgewiesen in Dimensions
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