KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevApplied.9.044004
Scopus
Zitationen: 1

Electromigration-Induced Surface Drift and Slit Propagation in Polycrystalline Interconnects : Insights from Phase-Field Simulations

Mukherjee, Arnab; Ankit, Kumar; Selzer, Michael; Nestler, Britta



Zugehörige Institution(en) am KIT Fakultät für Maschinenbau (MACH)
Institut für Angewandte Materialien - Computational Materials Science (IAM-CMS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2331-7019
KITopen ID: 1000082292
Erschienen in Physical review applied
Band 9
Heft 4
Seiten Art.Nr. 044004
Vorab online veröffentlicht am 04.04.2018
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page