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High performance printed oxide field-effect transistors processed using photonic curing

Garlapati, Suresh Kumar; Marques, Gabriel Cadilha; Gebauer, Julia Susanne; Dehm, Simone; Bruns, Michael; Winterer, Markus; Tahoori, Mehdi Baradaran; Aghassi-Hagmann, Jasmin; Hahn, Horst; Dasgupta, Subho



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/1361-6528/aab7a2
Scopus
Zitationen: 2
Web of Science
Zitationen: 2
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0957-4484, 1361-6528
KITopen-ID: 1000082417
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01)
Erschienen in Nanotechnology
Band 29
Heft 23
Seiten Art.Nr. 235205
Vorab online veröffentlicht am 11.04.2018
Nachgewiesen in Web of Science
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