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High performance printed oxide field-effect transistors processed using photonic curing

Garlapati, Suresh Kumar 1; Marques, Gabriel Cadilha 2; Gebauer, Julia Susanne; Dehm, Simone 1; Bruns, Michael 3; Winterer, Markus; Tahoori, Mehdi Baradaran 2; Aghassi-Hagmann, Jasmin ORCID iD icon 1; Hahn, Horst 1; Dasgupta, Subho 1
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1088/1361-6528/aab7a2
Scopus
Zitationen: 19
Web of Science
Zitationen: 17
Dimensions
Zitationen: 20
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 06.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0957-4484, 1361-6528
KITopen-ID: 1000082417
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems
Erschienen in Nanotechnology
Verlag Institute of Physics Publishing Ltd (IOP Publishing Ltd)
Band 29
Heft 23
Seiten Art.Nr. 235205
Vorab online veröffentlicht am 11.04.2018
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
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