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Active control of a plasmonic metamaterial for quantum state engineering

Uriri, S. A.; Tashima, T.; Zhang, X.; Asano, M.; Bechu, M. 1,2; Güney, D. Ö.; Yamamoto, T.; Özdemir, Ş. K.; Wegener, M. 1,2; Tame, M. S.
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevA.97.053810
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2469-9926, 2469-9934
KITopen-ID: 1000083283
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Physical review / A
Verlag American Physical Society (APS)
Band 97
Heft 5
Seiten Art. Nr.: 053810
Vorab online veröffentlicht am 08.05.2018
Nachgewiesen in Web of Science
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