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A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures [in press]

Zieger, Markus M.; Müller, Patrick; Blasco, Eva; Petit, Charlotte; Hahn, Vincent; Michalek, Lukas; Mutlu, Hatice; Wegener, Martin; Barner-Kowollik, Christopher



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X
KITopen ID: 1000083383
HGF-Programm 43.23.01; LK 01
Erschienen in Advanced functional materials
Seiten 1801405
Vorab online veröffentlicht am 22.05.2018
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