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A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures

Zieger, Markus M.; Müller, Patrick; Blasco, Eva; Petit, Charlotte; Hahn, Vincent; Michalek, Lukas; Mutlu, Hatice; Wegener, Martin; Barner-Kowollik, Christopher


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201801405
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Zitationen: 17
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Zitationen: 18
Dimensions
Zitationen: 21
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X
KITopen-ID: 1000083383
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced functional materials
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 28
Heft 29
Seiten Article No.1801405
Vorab online veröffentlicht am 22.05.2018
Nachgewiesen in Dimensions
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