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A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures

Zieger, Markus M. 1; Müller, Patrick 2,3; Blasco, Eva 1; Petit, Charlotte 1; Hahn, Vincent 2,3; Michalek, Lukas; Mutlu, Hatice 1; Wegener, Martin 2,3; Barner-Kowollik, Christopher 1
1 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)

Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X
KITopen-ID: 1000083383
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced functional materials
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 28
Heft 29
Seiten Article No.1801405
Vorab online veröffentlicht am 22.05.2018
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
OpenAlex
Scopus
Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung Ziel 9 – Industrie, Innovation und Infrastruktur

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201801405
Scopus
Zitationen: 33
Web of Science
Zitationen: 35
Dimensions
Zitationen: 38
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Altmetric
Seitenaufrufe: 133
seit 13.06.2018
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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