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A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures

Zieger, Markus M. 1; Müller, Patrick 2,3; Blasco, Eva 1; Petit, Charlotte 1; Hahn, Vincent 2,3; Michalek, Lukas; Mutlu, Hatice 1; Wegener, Martin 2,3; Barner-Kowollik, Christopher 1
1 Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201801405
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Zitationen: 36
Web of Science
Zitationen: 41
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Zitationen: 41
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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X
KITopen-ID: 1000083383
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced functional materials
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 28
Heft 29
Seiten Article No.1801405
Vorab online veröffentlicht am 22.05.2018
Nachgewiesen in Web of Science
Scopus
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Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung Ziel 9 – Industrie, Innovation und Infrastruktur
KIT – Die Universität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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