KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures

Zieger, Markus M.; Müller, Patrick; Blasco, Eva; Petit, Charlotte; Hahn, Vincent; Michalek, Lukas; Mutlu, Hatice; Wegener, Martin; Barner-Kowollik, Christopher

Open Access Logo


Download
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201801405
Scopus
Zitationen: 15
Web of Science
Zitationen: 13
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X
KITopen-ID: 1000083383
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Advanced functional materials
Band 28
Heft 29
Seiten Article No.1801405
Vorab online veröffentlicht am 22.05.2018
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page