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A Subtractive Photoresist Platform for Micro- and Macroscopic 3D Printed Structures [in press]

Zieger, Markus M.; Müller, Patrick; Blasco, Eva; Petit, Charlotte; Hahn, Vincent; Michalek, Lukas; Mutlu, Hatice; Wegener, Martin; Barner-Kowollik, Christopher



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/adfm.201801405
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Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 1
Seitenaufrufe: 27
seit 13.06.2018
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1616-301X
KITopen-ID: 1000083383
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Advanced functional materials
Seiten 1801405
Vorab online veröffentlicht am 22.05.2018
Nachgewiesen in Web of Science
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