Enhanced etching of tin-doped indium oxide due to surface modification by hydrogen ion injection
Li, Hu; Karahashi, Kazuhiro; Friederich, Pascal
1; Fink, Karin
1; Fukasawa, Masanaga; Hirata, Akiko; Nagahata, Kazunori; Tatsumi, Tetsuya; Wenzel, Wolfgang 1; Hamaguchi, Satoshi
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Fink, Karin
1; Fukasawa, Masanaga; Hirata, Akiko; Nagahata, Kazunori; Tatsumi, Tetsuya; Wenzel, Wolfgang 1; Hamaguchi, Satoshi1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0021-4922, 1347-4065 KITopen-ID: 1000083935 |
| HGF-Programm | 43.21.04 (POF III, LK 01) Molecular Engineering |
| Erschienen in | Japanese journal of applied physics |
| Verlag | Japan Society of Applied Physics |
| Band | 57 |
| Heft | 6 |
| Seiten | Art.Nr. 06JC05 |
| Nachgewiesen in | Scopus Dimensions Web of Science |