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Enhanced etching of tin-doped indium oxide due to surface modification by hydrogen ion injection

Li, Hu; Karahashi, Kazuhiro; Friederich, Pascal; Fink, Karin; Fukasawa, Masanaga; Hirata, Akiko; Nagahata, Kazunori; Tatsumi, Tetsuya; Wenzel, Wolfgang; Hamaguchi, Satoshi

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.7567/JJAP.57.06JC05
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Zitationen: 1
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-4922, 1347-4065
KITopen-ID: 1000083935
HGF-Programm 43.21.04 (POF III, LK 01)
Erschienen in Japanese journal of applied physics
Band 57
Heft 6
Seiten 06JC05
Nachgewiesen in Web of Science
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