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Verlagsausgabe
DOI: 10.5445/IR/1000084155
Veröffentlicht am 07.09.2018
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600576718007367

In situ and real-time monitoring of structure formation during non-reactive sputter deposition of lanthanum and reactive sputter deposition of lanthanum nitride

Krause, Bärbel; Kuznetsov, Dmitry S.; Yakshin, Andrey E.; Ibrahimkutty, Shyjumon; Baumbach, Tilo; Bijkerk, Fred



Zugehörige Institution(en) am KIT Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1600-5767
URN: urn:nbn:de:swb:90-841557
KITopen ID: 1000084155
HGF-Programm 56.03.20; LK 01
Erschienen in Journal of applied crystallography
Band 51
Heft 4
Seiten 1013-1020
Vorab online veröffentlicht am 28.06.2018
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