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STED-inspired Laser Lithography Based on Spirothiopyran Chromophores

Mueller, Patrick 1,2; Hammer, Larissa 3; Mueller, Rouven 3; Blasco, Eva 3; Barner-Kowollik, Christopher 3; Wegener, Martin 1,2
1 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/CLEO_SI.2018.SM4O.5
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Dimensions
Zitationen: 1
BibTeX (UTF-8) BibTeX (ASCII) EndNote/Refer (.enw) RIS CSL-JSON ISI
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Photonik und Quantenelektronik (IPQ)
Publikationstyp Proceedingsbeitrag
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISBN: 978-1-943580-42-2
KITopen-ID: 1000084460
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in CLEO: Science and Innovations, San Jose, California, 2018
Verlag Optica Publishing Group (OSA)
Seiten SM4O.5
Nachgewiesen in Dimensions
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