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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jallcom.2006.12.131
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Zitationen: 9
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Zitationen: 6

Positron annihilation study of hydrogen trapping at open-volume defects: Comparison of nanocrystalline and epitaxial Nb thin films

Cizek, J.; Prochazka, I.; Danis, S.; Melikhova, O.; Vlach, M.; Zaludova, N.; Brauer, G.; Anwand, W.; Mücklich, A.; Gemma, R.; Nikitin, E.; Kirchheim, R.; Pundt, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffkunde (IAM-WK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2007
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0925-8388
KITopen-ID: 1000084651
Erschienen in Journal of alloys and compounds
Band 446-447
Seiten 484–488
Nachgewiesen in Scopus
Web of Science
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