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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.actamat.2016.05.023
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Zitationen: 9

Mechanical stress and stress release channels in 10–350 nm palladium hydrogen thin films with different micro-structures

Wagner, Stefan; Kramer, Thilo; Uchida, Helmut; Dobron, Patrik; Cizek, Jakub; Pundt, Astrid



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffkunde (IAM-WK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2016
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1359-6454
KITopen ID: 1000084796
Erschienen in Acta materialia
Band 114
Seiten 116–125
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