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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.ijhydene.2017.04.011
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Hydrogenation behavior on 30 nm vanadium thin films with two different adhesion conditions

Tyagi, Anshu; Döring, Florian; Krebs, Hans-Ulrich; Pundt, Astrid



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffkunde (IAM-WK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2017
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0360-3199
KITopen ID: 1000084800
Erschienen in International journal of hydrogen energy
Band 42
Heft 35
Seiten 22575–22582
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