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Optical properties of radio-frequency magnetron sputtered α-(Cr1-xAlx)2O3 thin films grown on α-Al2O3 substrates at different temperatures

Gao, Y. 1; Leiste, H. 1; Heissler, S. 2; Ulrich, S. 1; Stueber, M. 1
1 Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2018.06.053
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Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien – Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 1000084949
HGF-Programm 34.13.01 (POF III, LK 01) Material f.therm.,mechan.u.Umweltbelast.
Erschienen in Thin solid films
Verlag Elsevier
Band 660
Seiten 439-446
Schlagwörter 2017-019-019954; 2017-019-019953 TFC TFT
Nachgewiesen in Dimensions
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