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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.tsf.2018.06.053

Optical properties of radio-frequency magnetron sputtered α-(Cr1-xAlx)2O3 thin films grown on α-Al2O3 substrates at different temperatures

Gao, Y.; Leiste, H.; Heissler, S.; Ulrich, S.; Stueber, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Angewandte Werkstoffphysik (IAM-AWP)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen ID: 1000084949
Erschienen in Thin solid films
Band 660
Seiten 439-446
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