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Stress development in thin yttrium films on hard substrates during hydrogen loading

Dornheim, M.; Pundt, A.; Kirchheim, R.; Molen, S. J. v. d.; Kooij, E. S.; Kerssemakers, J.; Griessen, R.; Harms, H.; Geyer, U.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1063/1.1568153
Scopus
Zitationen: 38
Web of Science
Zitationen: 32
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffkunde (IAM-WK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 06.2003
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0021-8979, 1089-7550
KITopen-ID: 1000085008
Erschienen in Journal of applied physics
Band 93
Heft 11
Seiten 8958–8965
Nachgewiesen in Scopus
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