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Korrosionsbeständige mikroverfahrenstechnische Apparate durch CVD-Beschichtung mit Tantal = Corrosion‐Resistant Microprocess Apparatuses by Means of CVD Coating with Tantalum

Gietzelt, Thomas ORCID iD icon 1; Kraut, Manfred 1; Messerschmidt, Florian 1; Fürbeth, Wolfram; Dittmeyer, Roland 1
1 Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Preprint §
DOI: 10.5445/IR/1000085784
Veröffentlicht am 16.03.2022
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/cite.201700168
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Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikroverfahrenstechnik (IMVT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Deutsch
Identifikator ISSN: 0009-286X, 1522-2640
KITopen-ID: 1000085784
HGF-Programm 37.03.02 (POF III, LK 01) Components and Process Development
Erschienen in Chemie - Ingenieur - Technik
Verlag Wiley-VCH Verlag
Band 90
Heft 8
Seiten 1037-1046
Nachgewiesen in Scopus
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