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Combined in-depth X-ray Photoelectron Spectroscopy and Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectroscopy study of the effect of deposition pressure and substrate bias on the electrical properties and composition of Ga-doped ZnO thin films grown by magnetron sputtering

Correia, F. C.; Ribeiro, J. M.; Salvador, P. B.; Welle, Alexander; Bruns, Michael; Mendes, A.; Tavares, C. J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0040-6090, 1879-2731
KITopen-ID: 1000086230
HGF-Programm 49.02.07 (POF III, LK 01)
Erschienen in Thin solid films
Band 665
Seiten 184-192
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