Combined in-depth X-ray Photoelectron Spectroscopy and Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectroscopy study of the effect of deposition pressure and substrate bias on the electrical properties and composition of Ga-doped ZnO thin films grown by magnetron sputtering
Correia, F. C.; Ribeiro, J. M.; Salvador, P. B.; Welle, Alexander
1,2; Bruns, Michael 2; Mendes, A.; Tavares, C. J.
1 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1,2; Bruns, Michael 2; Mendes, A.; Tavares, C. J.1 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS) Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0040-6090, 1879-2731 KITopen-ID: 1000086230 |
| HGF-Programm | 49.02.07 (POF III, LK 02) XPS |
| Erschienen in | Thin solid films |
| Verlag | Elsevier |
| Band | 665 |
| Seiten | 184-192 |
| Nachgewiesen in | Dimensions Web of Science Scopus |