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Optimization of laser writer-based UV lithography with high magnification optics to pattern X-ray lithography mask templates

Achenbach, S.; Hengsbach, S. 1; Schulz, J. 1; Mohr, J. 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-018-4161-2
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Zitationen: 4
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Zitationen: 3
Dimensions
Zitationen: 6
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Beschleunigerphysik und Technologie (IBPT)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0946-7076, 1432-1858
KITopen-ID: 1000086709
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Weitere HGF-Programme 54.01.01 (POF III, LK 01) ps- und fs-Strahlen
Erschienen in Microsystem technologies
Verlag Springer
Band 25
Heft 8
Seiten 2975–2983
Vorab online veröffentlicht am 09.10.2018
Nachgewiesen in Dimensions
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