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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1007/s00542-018-4161-2

Optimization of laser writer-based UV lithography with high magnification optics to pattern X-ray lithography mask templates [in press]

Achenbach, S.; Hengsbach, S.; Schulz, J.; Mohr, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0946-7076, 1432-1858
KITopen ID: 1000086709
HGF-Programm 43.23.02; LK 01
Erschienen in Microsystem technologies
Vorab online veröffentlicht am 09.10.2018
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