Optimization of laser writer-based UV lithography with high magnification optics to pattern X-ray lithography mask templates
Achenbach, S.; Hengsbach, S.
1; Schulz, J.
1; Mohr, J. 1
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
1; Schulz, J.
1; Mohr, J. 11 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Beschleunigerphysik und Technologie (IBPT) Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2018 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0946-7076, 1432-1858 KITopen-ID: 1000086709 |
| HGF-Programm | 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics |
| Weitere HGF-Programme | 54.01.01 (POF III, LK 01) ps- und fs-Strahlen |
| Erschienen in | Microsystem technologies |
| Verlag | Springer |
| Band | 25 |
| Heft | 8 |
| Seiten | 2975–2983 |
| Vorab online veröffentlicht am | 09.10.2018 |
| Nachgewiesen in | OpenAlex Web of Science Scopus Dimensions |
| Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung |