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Surface-Anchored Metal–Organic Frameworks as Versatile Resists for Gas-Assisted E-Beam Lithography: Fabrication of Sub-10 Nanometer Structures

Drost, Martin; Tu, Fan; Berger, Luisa; Preischl, Christian; Zhou, Wencai 1; Gliemann, Hartmut 1; Wöll, Christof 1; Marbach, Hubertus
1 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Postprint §
DOI: 10.5445/IR/1000086738
Veröffentlicht am 05.08.2019
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsnano.8b01071
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Dimensions
Zitationen: 37
Cover der Publikation
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsmonat/-jahr 04.2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen-ID: 1000086738
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in ACS nano
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 12
Heft 4
Seiten 3825–3835
Vorab online veröffentlicht am 14.03.2018
Schlagwörter 2016-016-013849 SURMOF
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