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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsnano.8b01071
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Zitationen: 1

Surface-Anchored Metal–Organic Frameworks as Versatile Resists for Gas-Assisted E-Beam Lithography: Fabrication of Sub-10 Nanometer Structures

Drost, Martin; Tu, Fan; Berger, Luisa; Preischl, Christian; Zhou, Wencai; Gliemann, Hartmut; Wöll, Christof; Marbach, Hubertus



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2018
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1936-0851, 1936-086X
KITopen ID: 1000086738
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erschienen in ACS nano
Band 12
Heft 4
Seiten 3825–3835
Vorab online veröffentlicht am 14.03.2018
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